[发明专利]一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质有效
| 申请号： | 201811603013.2 | 申请日： | 2018-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN109449727B | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 郑林;彭智祥;刘树文;王艳红 | 申请（专利权）人： | 东莞铭普光磁股份有限公司 |
| 主分类号： | H01S3/00 | 分类号： | H01S3/00;H01S5/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 罗满 |
| 地址： | 523343 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质，包括：将光模块放置在高温环境下，当MCU温度指针达到目标工作温度时，调节激光器核心温度值、偏压电流值和VEA值，使光模块的光功率、消光比、通道代价满足目标值；以光模块中MCU温度指针为索引，根据服务器上预先存储的数据库中激光器核心温度值、VEA值与调节后的激光器核心温度值、VEA值的对应关系，动态更新本地数据库中激光器核心温度值、VEA值；在常温和低温下分别测试光模块的光功率、消光比和通道代价，若性能正常，则完成参数配置。本申请通过上述步骤将带EML激光器的光模块在高温调试和常温低温测试，即能制作成品率高和合格率高的产品。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 模块 参数 配置 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
1.一种光模块参数配置方法，其特征在于，包括：将光模块放置在高温环境下，当所述光模块中MCU温度指针达到目标工作温度时，调节EML激光器核心温度值、偏压电流值和VEA值，使所述光模块的光功率、消光比、通道代价满足目标值；以所述光模块中MCU温度指针为索引，保持偏压电流值不变，根据服务器上预先存储的数据库中EML激光器核心温度值、VEA值与调节后的EML激光器核心温度值、VEA值的对应关系，动态更新本地数据库中EML激光器核心温度值、VEA值；根据更新后的本地数据库中的参数，在常温和低温下分别测试所述光模块的光功率、消光比和通道代价，若性能正常，则完成参数配置。
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