[发明专利]抛光垫的修整方法、修整装置、抛光垫及双面抛光装置

摘要

本发明提供一种抛光垫的修整方法、修整装置、抛光垫及双面抛光装置，该修整方法包括：通过控制双面抛光装置的上抛光板和下抛光板形变，使得上抛光板和所述下抛光板之间的间距，从靠近旋转轴线至远离旋转轴线的方向上呈递增趋势；并通过安装于上抛光垫和下抛光垫之间的修整工具对上抛光垫和下抛光垫的表面进行修整，修整后的上抛光垫和下抛光垫之间具有理想的工作间隙，提高了双面抛光装置的抛光性能。并且，在修整抛光垫的过程中，只需控制上抛光板和下抛光板形变即可，无需借助其他载体的辅助，修整过程快速高效，且修整精度高。

主权项

1.一种双面抛光装置的抛光垫的修整方法，其特征在于，所述双面抛光装置包括：相对设置的上抛光板和下抛光板，设置于所述上抛光板上的上抛光垫，设置于所述下抛光板上的下抛光垫，与所述上抛光板和下抛光板具有共同的旋转轴线的旋转装置；所述修整方法包括：调整步骤：控制所述上抛光板和所述下抛光板形变，使得所述上抛光板和所述下抛光板之间的间距，从靠近所述旋转轴线至远离所述旋转轴线的方向上呈递增趋势；修整步骤：控制所述上抛光板、所述下抛光板和所述旋转装置旋转，以驱动安装于所述上抛光垫和所述下抛光垫之间的修整工具围绕自身的轴线自转且同时绕所述旋转轴线公转，以对所述上抛光垫和下抛光垫的表面进行修整，得到修整后的上抛光垫和下抛光垫，修整后的上抛光垫和下抛光垫之间的工作间隙，从靠近所述旋转轴线至远离所述旋转轴线的方向上呈递减趋势。