[发明专利]二极管及其制作方法、阵列基板、显示面板有效

专利信息
申请号: 201811612490.5 申请日: 2018-12-27
公开(公告)号: CN109686808B 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 刘博智;史晓琪;蔡寿金;蓝学新;陈国照 申请(专利权)人: 厦门天马微电子有限公司
主分类号: H01L31/105 分类号: H01L31/105;H01L31/20;G06K9/00
代理公司: 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11603 代理人: 于淼
地址: 361101 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种二极管及其制作方法、阵列基板、显示面板,属于显示技术领域,二极管包括:衬底基板,衬底基板一侧设有缓冲层,缓冲层远离衬底基板一侧设置有第一膜层、第二膜层、第三膜层,第一膜层为多晶硅膜层,第二膜层为非晶硅膜层,第三膜层为多晶硅膜层或非晶硅膜层中的任一种;二极管至少包括第一部、第二部、第三部、第一电极、第二电极,第一部位于第一膜层,第二部位于第二膜层,第三部位于第三膜层;第一电极与第一部电连接,第二电极与第三部电连接。本发明在保证二极管对光的吸收的同时,还可以提高光通量,增加二极管的光敏性,还可以有利于降低光源的使用功耗,简化工艺制程,提高制作效率。
搜索关键词: 二极管 及其 制作方法 阵列 显示 面板
【主权项】:
1.一种二极管,其特征在于,包括:衬底基板,所述衬底基板一侧设有缓冲层,所述缓冲层远离所述衬底基板一侧设置有第一膜层、第二膜层、第三膜层,所述第二膜层位于所述第一膜层远离所述缓冲层的一侧,所述第三膜层位于所述第二膜层远离所述缓冲层的一侧;所述第一膜层为多晶硅膜层,所述第二膜层为非晶硅膜层,所述第三膜层为多晶硅膜层或非晶硅膜层中的任一种;所述二极管至少包括第一部、第二部、第三部、第一电极、第二电极,所述第一部位于所述第一膜层,所述第二部位于所述第二膜层,所述第三部位于所述第三膜层;所述第一电极位于所述第一部远离所述缓冲层的一侧,所述第一电极与所述第一部电连接,所述第二电极位于所述第三部远离所述缓冲层的一侧,所述第二电极与所述第三部电连接。
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