[发明专利]一种气体处理装置

摘要

本发明涉及半导体装备制造技术领域，尤其涉及一种气体处理装置，包括腔室，加热装置，气体管道，测温装置，冷却系统和点火装置，气体处理装置设置有内层和外层，气体处理装置的内层组成的封闭空间构成腔室，气体管道从气体处理装置外层的外部通入到腔室内，加热装置设置在气体管道上，冷却系统设置在气体处理装置内层与外层之间，气体处理装置上还设置有助燃气体通道，助燃气体管路与腔室连通，点火装置设置在腔室里面，将腔室的两侧侧壁设置成对称的膜片结构，该膜片结构能够发生形变即凸起或凹陷，本发明节能高效，且能够实现对被处理气体的分解物高效回收。