[发明专利]一种精密元件的抛光、清洗工艺在审
| 申请号： | 201811622517.9 | 申请日： | 2018-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN109648450A | 公开（公告）日： | 2019-04-19 |
| 发明（设计）人： | 方卫翔 | 申请（专利权）人： | 临安宇杰精密制品有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B08B3/12;B08B3/08;C11D7/08;C11D7/10;C11D7/26;C11D7/32;C11D7/34;C11D7/60;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京华际知识产权代理有限公司 11676 | 代理人： | 李浩 |
| 地址： | 311300 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种精密元件的抛光、清洗工艺，该抛光、清洗工艺包括以下步骤：将待抛光的精密元件压在抛光模上进行抛光；将抛光后的精密元件置于清洗液中浸泡，去离子水冲洗；乙醇超声清洗；去离子水高压喷淋清洗；干燥，得精密元件；本发明将抛光沥青和氧化铝粉按一定配比制成抛光模，利用该抛光模对精密元件进行抛光，可使精密元件达到很好的表面光洁度，保证精密元件的加工精度；清洗液能够彻底去除精密元件表面的玷污、白斑等；采用多频率超声清洗工艺，使清洗后的精密元件表面具有很好的洁净度；检测结果表明，本发明的抛光、清洗工艺对精密元件具有很好的抛光效果和清洁效果。 | ||
| 搜索关键词： | 精密元件 抛光 清洗工艺 抛光模 清洗 去离子水 清洗液 表面光洁度 超声清洗 高压喷淋 检测结果 抛光沥青 抛光效果 清洁效果 氧化铝粉 乙醇超声 多频率 洁净度 白斑 配比 去除 冲洗 浸泡 玷污 加工 保证 | ||
【主权项】：
1.一种精密元件的抛光、清洗工艺，其特征在于，该抛光、清洗工艺包括以下步骤：(1)抛光：将待抛光的精密元件压在抛光模上进行抛光；(2)清洗：(A)清洗液中浸泡，去离子水冲洗；(B)乙醇超声清洗；(C)去离子水高压喷淋清洗；(D)干燥，得精密元件。
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