[发明专利]一种基于最小二乘法的PECVD色差改善方法有效
| 申请号： | 201811629432.3 | 申请日： | 2018-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN109753718B | 公开（公告）日： | 2023-09-05 |
| 发明（设计）人： | 郭丽;焦朋府;武纹平;陈丽 | 申请（专利权）人： | 山西潞安太阳能科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20 |
| 代理公司： | 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 | 代理人： | 李富元 |
| 地址： | 046000 山*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： |
本发明涉及太阳能电池片生成领域，特别涉及太阳能电池片管式PECVD工艺领域。一种基于最小二乘法的PECVD色差改善方法，步骤一、测量石墨舟使用过程中每隔q次循环使用时每批硅片的平均膜厚；求取s次循环测量过程中每批次膜厚的平均值 |
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| 搜索关键词： | 一种 基于 最小二乘法 pecvd 色差 改善 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于最小二乘法的PECVD色差改善方法，其特征在于：安装如下的步骤进行步骤一、测量石墨舟每次使用过程中每隔q次循环使用时每批硅片的平均膜厚；步骤二、求取石墨舟s次循环测量过程中每批次膜厚的平均值![]()
m为每次石墨舟使用过程中硅片的批次总数，i为第i次循环测量，s为循环测量总次数；步骤三、利用最小二乘法将每批次膜厚的平均值![]()
与每次石墨舟使用过程中硅片的批次拟合，求出拟合函数Φ(ui)；步骤四、根据目标膜厚与拟合函数Φ(ui)差值推导出修正沉积时间的函数Ψ(ui)；步骤五、在当前的沉积时间G′上补充上修正沉积时间，得到色差改善沉积时间G＝G′+Ψ(ui)，按照色差改善沉积时间G进行沉积。
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