[发明专利]预对准系统、预对准方法及光刻设备有效
| 申请号： | 201811642976.3 | 申请日： | 2018-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN111381451B | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | 靳力;程建;郑教增 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了预对准系统、预对准方法及光刻设备中，所述预对准模块用于侦测硅片的位置信息及编码信息，所述图像采集模块用于采集所述硅片的位置信息及硅片的编码信息并传回所述中央处理模块；所述中央处理模块用于根据所述硅片的位置信息发出运动指令，所述运动控制模块根据所述运动指令控制所述预对准模块运动以进行硅片的预对准；所述中央处理模块还用于根据所述硅片的编码信息进行所述硅片的编码识别。由中央处理模块控制实现硅片的预对准和编码识别，不必再由其它设备协调，从而既节约了硅片的预对准和编码识别的时间，又使预对准系统具有较强的功能性，在后续生产过程中不需要再额外增加硅片编码识别的设备，减少了设备的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 系统 方法 光刻 设备 | ||
【主权项】：
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