[发明专利]一种苔藓植物外植体的消毒方法有效

专利信息
申请号: 201811651293.4 申请日: 2018-12-31
公开(公告)号: CN109588315B 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 陈振华;陈仕勇;韦彦妃 申请(专利权)人: 西南民族大学
主分类号: A01H4/00 分类号: A01H4/00
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 李玉兴
地址: 610000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种杀菌效果好、消毒废液不污染环境且对人体无害、毒性小、不易损伤苔藓植物的苔藓植物外植体的消毒方法。该消毒方法通过对苔藓外植体清洗后,接着将外植体依次经过酒精、次氯酸钠、酒精、次氯酸钠浸泡消毒处理,然后利用无菌水清洗干净后放入培养皿中,培养14‑21天至培养基表面形成原丝体和茎叶体,剪取培养基表面形成的原丝体和茎叶体,并依次经过酒精、次氯酸钠、酒精、次氯酸钠浸泡消毒处理,最后再利用无菌水清洗干净后即可得到无菌的苔藓外植体,该消毒方法操作简单、所需外植体量少、操作门槛低、不使用高污染消毒剂、对环境无害,试验效果好。适合在植物组织培养技术领域推广应用。
搜索关键词: 一种 苔藓植物 外植体 消毒 方法
【主权项】:
1.一种苔藓植物外植体的消毒方法,其特征在于包括以下步骤:A、苔藓植物外植体的选取:挑选健壮的、生长旺盛的外植体,将外植体的假根部分切除后,放入流水中冲洗时间为3‑8min;B、将经过步骤A处理过后的外植体放入超声波震荡仪中清洗1‑2h;C、将经过步骤B处理过后的外植体浸泡在浓度为500mg/l的氨苄青霉素钠溶液中,并且在避光条件下恒温浸泡1‑2h,所述氨苄青霉素钠溶液的温度为3.5‑4.5度;D、将经过步骤C处理过后的外植体依次经过如下浸泡处理:首先,放入浓度为75%酒精中浸泡一段时间后,利用无菌水清洗一段时间后接着放入浓度为1%的次氯酸钠溶液中浸泡一段时间,利用无菌水清洗一段时间后再放入浓度为75%酒精中浸泡一段时间,利用无菌水清洗一段时间后再放入浓度为1%的次氯酸钠溶液中浸泡一段时间,最后再利用无菌水清洗干净备用;E、将经过步骤D处理过后的外植体放入培养皿中,培养皿底部装有无菌过滤棉,并在培养皿中加入营养液,加入的营养液量将培养皿底部放置的无菌过滤棉完全湿润即可,所述营养液由6‑BA、氨苄青霉素钠、knop无机培养液组成,其中6‑BA的浓度为0.1mg/L,氨苄青霉素钠的浓度为500mg/L;F、将培养皿置于培养箱中培养14‑21天至培养基表面形成原丝体和茎叶体,培养箱的温度为23‑25度;每天24d中在黑暗中培养的时间为6‑10小时,其余时间为光照下培养;G、剪取培养基表面形成的原丝体和茎叶体,并依次经过如下浸泡处理:首先,放入浓度为75%酒精中浸泡一段时间,利用无菌水清洗一段时间后接着放入浓度为1%的次氯酸钠溶液中浸泡一段时间,利用无菌水清洗一段时间后再放入浓度为75%酒精中浸泡一段时间,利用无菌水清洗一段时间后再放入浓度为1%的次氯酸钠溶液中浸泡一段时间,最后再利用无菌水清洗干净后即可得到无菌的苔藓外植体。
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