[实用新型]曝光机的光源系统有效
| 申请号： | 201820005844.9 | 申请日： | 2018-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN207965469U | 公开（公告）日： | 2018-10-12 |
| 发明（设计）人： | 杨小丽 | 申请（专利权）人： | 富丽明企业有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 中国台湾桃园市中坜*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种曝光机的光源系统，用于提供光源至照射面，包含基座、光源阵列装置、光源调整装置及反光罩；该基座系供可拆地安装至曝光机上；该光源阵列装置设置于该基座上，该光源阵列装置包括以行列排列而成的多个排LED灯组；该光源调整装置系与该光源阵列装置连接，用以调整该多个LED灯组相对于该基座的位置；该反光罩设置于该基座下方，用以反射该多个LED灯组发出的光线，本实用新型公开的光源系统是具有模块化的特点，而可快速、方便地替代现有技术曝光机光源，并达到提高现有技术曝光机光照度均匀性的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 光源阵列 曝光机 光源系统 光源调整装置 本实用新型 反光罩 光源 光照度均匀性 行列排列 装置连接 装置设置 模块化 照射面 可拆 反射 曝光 替代 | ||
【主权项】：
1.一种曝光机的光源系统，用于提供光源至一照射面，其特征在于，包含：一基座，是供可拆地安装至曝光机上；一光源阵列装置，设置于该基座上，该光源阵列装置包括以行列排列而成的多个排LED灯组；一光源调整装置，与该光源阵列装置连接，用以调整该多个LED灯组相对于该基座的位置；以及一反光罩，设置于该基座下方，用以反射该多个LED灯组发出的光线。
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