[实用新型]一种干法制绒设备工艺反应腔有效
申请号: | 201820047648.8 | 申请日: | 2018-01-11 |
公开(公告)号: | CN207731943U | 公开(公告)日: | 2018-08-14 |
发明(设计)人: | 朱海剑;庄正军;丁建宁;袁宁一;王书博;上官泉元 | 申请(专利权)人: | 常州比太黑硅科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0236;C30B33/10 |
代理公司: | 北京集智东方知识产权代理有限公司 11578 | 代理人: | 张红;程立民 |
地址: | 213164 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种干法制绒设备工艺反应腔,包括:由四个侧板和一个底板围成的腔体,并通过设置在腔体内的隔板将腔体分为两个连通的腔室;两个分别通过连接轴转动连接至对应两个腔室上方并可单独侧向掀开的上盖;上盖由一体的盖体上加工多道并列的工艺槽。该实用新型采用双上盖结构,用两件独立开关的上盖代替传统的一件大尺寸上盖,有效控制了上盖的制作成本和加工周期;且由于中间隔板的支撑作用,两件小尺寸上盖可以具有比单个大尺寸上盖更小的厚度,有效控制了上盖在真空环境下的变形,进一步降低了制作及使用成本。 | ||
搜索关键词: | 上盖 设备工艺 有效控制 反应腔 腔室 腔体 侧向 底板 隔板 本实用新型 独立开关 加工周期 上盖结构 真空环境 支撑作用 中间隔板 转动连接 传统的 工艺槽 连接轴 侧板 盖体 制作 连通 变形 并列 掀开 体内 加工 | ||
【主权项】:
1.一种干法制绒设备工艺反应腔,其特征在于,包括:腔体,所述腔体由四个侧板和一个底板围成,并由设置在所述腔体内的隔板将所述腔体分为两个连通的腔室;两个上盖,分别通过连接轴转动连接至对应两个所述腔室的上方,以通过所述连接轴分别实现两个所述上盖的单独侧向掀开;所述上盖的盖体上加工有多道并列的工艺槽。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的