[实用新型]一种修整器清洗机构有效

专利信息
申请号: 201820124417.2 申请日: 2018-01-24
公开(公告)号: CN208276735U 公开(公告)日: 2018-12-25
发明(设计)人: 许振杰;董兵超;贾弘源;陈映松;姚宇;尹士龙;崔凯;李昆;路新春 申请(专利权)人: 清华大学;天津华海清科机电科技有限公司
主分类号: B24B53/017 分类号: B24B53/017;B08B3/02
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 黄德海
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种修整器清洗机构,修整器清洗机构适于设于化学机械抛光机的工作平台上,工作平台上还设有抛光盘和修整器,修整器包括固定座和修整主体,固定座固定于工作平台,修整主体与固定座枢接以使修整主体可在位于抛光盘上方的修整位置和偏离抛光盘的清洗位置之间摆动,修整器清洗机构包括:清洗主体,清洗主体设于工作平台上,且清洗主体偏离抛光盘设置,清洗主体被构造成:当修整主体位于清洗位置时,清洗主体可朝向修整主体的至少两个方位喷洒清洗液;防溅组件,防溅组件设于清洗主体上以防止清洗液飞溅至抛光盘处。根据本实用新型的修整器清洗机构,清洗效果好,且同时可避免清洗液飞溅至抛光盘上而影响抛光质量。
搜索关键词: 修整器 抛光盘 清洗机构 清洗 修整 工作平台 固定座 清洗液 本实用新型 防溅组件 清洗位置 飞溅 偏离 化学机械抛光机 清洗效果 修整位置 抛光 摆动 枢接 喷洒
【主权项】:
1.一种修整器清洗机构,其特征在于,所述修整器清洗机构适于设于化学机械抛光机的工作平台上,所述工作平台上还设有抛光盘和修整器,所述修整器包括固定座和修整主体,所述固定座固定于所述工作平台,所述修整主体与所述固定座枢接以使所述修整主体可在位于所述抛光盘上方的修整位置和偏离所述抛光盘的清洗位置之间摆动,所述修整器清洗机构包括:清洗主体,所述清洗主体设于所述工作平台上,且所述清洗主体偏离所述抛光盘设置,所述清洗主体被构造成:当所述修整主体位于所述清洗位置时,所述清洗主体可朝向所述修整主体的至少两个方位喷洒清洗液;防溅组件,所述防溅组件设于所述清洗主体上以防止所述清洗液飞溅至所述抛光盘处。
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