[实用新型]消光装置、光学系统及光刻机有效
| 申请号： | 201820165275.4 | 申请日： | 2018-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN207780484U | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 裴万生;刁雷;周剑锋 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B17/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种消光装置、光学系统及光刻机。该消光装置包括消光本体；消光本体包括受光面；受光面上设置有多个阵列排布的消光凹槽，以使进入到消光凹槽的光线在消光凹槽内发生多次反射。本实用新型通过提供一种包括消光本体的消光装置；并设置消光本体包括受光面；受光面上设置有多个阵列排布的消光凹槽，以使进入到消光凹槽内的光线在消光凹槽内发生多次反射，以促使杂散光的能量消散，进而达到消除杂散光的目的，解决了现有的消除杂散光的方法无法消除光线在光学系统内传播过程中产生的杂散光的问题，达到了消除光线在光学系统内传播过程中产生的杂散光，提高光学系统的性能的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 消光 光学系统 杂散光 本实用新型 传播过程 多次反射 多个阵列 光刻机 受光面 排布 受光 能量消散 | ||
【主权项】：
1.一种消光装置，其特征在于，包括消光本体；所述消光本体包括受光面；所述受光面上设置有多个阵列排布的消光凹槽，以使进入到所述消光凹槽的光线在所述消光凹槽内发生多次反射。
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