[实用新型]溶剂槽及涂胶显影装置有效
| 申请号： | 201820209643.0 | 申请日： | 2018-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN207752296U | 公开（公告）日： | 2018-08-21 |
| 发明（设计）人： | 沈雪;张荃雄 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/16;G03F7/26 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种溶剂槽及涂胶显影装置。所述溶剂槽，包括用于清洗光刻胶喷嘴的腔体及位于所述腔体顶部的开口，所述开口用于所述光刻胶喷嘴进出所述腔体，还包括控制组件和开关组件，所述控制组件，连接所述开关组件，用于判断所述光刻胶喷嘴是否从所述腔体移出，若是，则控制所述开关组件封闭所述开口。本实用新型避免了从溶剂槽中挥发的清洗溶剂对涂胶显影制程造成影响，确保了晶圆产品的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 溶剂槽 光刻胶喷嘴 开关组件 涂胶 本实用新型 开口 控制组件 显影装置 腔体 半导体制造技术 晶圆产品 腔体顶部 清洗溶剂 腔体移 挥发 显影 制程 清洗 封闭 | ||
【主权项】：
1.一种溶剂槽，包括用于清洗光刻胶喷嘴的腔体及位于所述腔体顶部的开口，所述开口用于所述光刻胶喷嘴进出所述腔体，其特征在于，还包括控制组件和开关组件；所述控制组件，连接所述开关组件，用于判断所述光刻胶喷嘴是否从所述腔体移出，若是，则控制所述开关组件封闭所述开口。
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