[实用新型]电容触摸屏用的消影结构和电容触摸屏有效
| 申请号： | 201820440624.9 | 申请日： | 2018-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN208110556U | 公开（公告）日： | 2018-11-16 |
| 发明（设计）人： | 黄亮;蒋蔚;陈凯;许东东;黄受林;杨谦;黄海东 | 申请（专利权）人： | 深圳力合光电传感股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;G06F3/044 |
| 代理公司： | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人： | 官建红 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明新区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种电容触摸屏用的消影结构和电容触摸屏，该消影结构包括玻璃基板，所述消影结构还包括依次层叠设置的第一二氧化硅膜层、氧化铟锡膜层、二氧化硅/氮化硅混合膜层、氮化硅膜层和五氧化二铌膜层；所述第一二氧化硅膜层与所述玻璃基板相邻设置，所述氧化铟锡膜层为氧化铟锡图案化电极层。该消影结构在保证氧化铟锡膜层的方阻不漂移的情况下，去调试消影效果，这样可以使消影效果更好，而且对刻蚀痕也有一定的消影效果。另外，氮化硅膜层坚硬、介电常数高，可以保护产品免受划伤、防止产品功能受影响。 | ||
| 搜索关键词： | 消影 电容触摸屏 氧化铟锡膜层 二氧化硅膜层 氮化硅膜层 玻璃基板 漂移 氧化铟锡图案 本实用新型 五氧化二铌 产品功能 二氧化硅 混合膜层 介电常数 相邻设置 依次层叠 氮化硅 电极层 方阻 划伤 刻蚀 膜层 调试 保证 | ||
【主权项】：
1.一种电容触摸屏用的消影结构，包括玻璃基板，其特征在于：所述消影结构还包括依次层叠设置的第一二氧化硅膜层、氧化铟锡膜层、二氧化硅/氮化硅混合膜层、氮化硅膜层和五氧化二铌膜层；所述第一二氧化硅膜层与所述玻璃基板相邻设置，所述氧化铟锡膜层为氧化铟锡图案化电极层。
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