[实用新型]一种光刻机的光罩存放单元及光刻机有效
申请号: | 201820612307.0 | 申请日: | 2018-04-26 |
公开(公告)号: | CN208156410U | 公开(公告)日: | 2018-11-27 |
发明(设计)人: | 万峰;谢华 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66;G03F7/20 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 俞涤炯 |
地址: | 201315 上海市浦东新区中国(上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种光刻机的光罩存放单元及光刻机,光刻机的光罩存放单元包括光罩存放台,光罩存放台上设置有光罩支撑架和喷嘴支撑架,光罩存放单元连接一干燥净化装置,干燥净化装置接入干燥气。采用实用新型的技术方案降低了光罩存放单元的环境湿度,抑制了光罩雾化的生长速度,实现提高产品良率,避免了光罩送洗断线所造成的经济损失。 | ||
搜索关键词: | 光罩 存放单元 光刻机 干燥净化装置 本实用新型 喷嘴支撑架 产品良率 经济损失 存放台 干燥气 支撑架 断线 雾化 生长 | ||
【主权项】:
1.一种光刻机的光罩存放单元,其特征在于,包括光罩存放台,所述光罩存放台上设置有光罩支撑架和喷嘴支撑架,所述喷嘴支撑架设置在所述光罩支撑架的外侧;所述光罩存放单元连接一干燥净化装置,所述干燥净化装置的输入端接入干燥气,所述干燥净化装置包括多个第一输出端和多个第二输出端,所述第一输出端设置在所述喷嘴支撑架的顶端,所述第二输出端设置在所述光罩存放台的上表面;当光罩放置在所述光罩支撑架上时,所述第一输出端所处的高度高于所述光罩的放置的高度,所述第二输出端位于所述光罩的下方。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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