[实用新型]离子注入跑片装置

摘要

本实用新型公开了离子注入跑片装置。该离子注入跑片装置包括水平进出传送区，用于水平运送装载硅片的托盘；垂直输送缓冲区，连通水平进出传送区，用于垂直向上或向下运送托盘；单个水平传送区，用于先后运送多个托盘，单个水平传送区依次具有第一离子注入工位、切换硅片位置工位及第二离子注入工位，第一离子注入工位用于在硅片的第一位置注入第一离子，切换硅片位置工位用于对应硅片的第二位置，第二离子注入工位用于在硅片的第二位置注入第二离子；及垂直输送储存区，用于垂直向上或向下运送托盘。本实用新型所述离子注入跑片装置，离子注入方便、快速、成本低、制作的硅片质量好。

主权项

1.一种离子注入跑片装置，其特征在于，包括：水平进出传送区，所述水平进出传送区用于水平运送装载硅片的托盘，所述托盘设有若干平行设置的滑轨及一隔板，所述隔板滑动连接若干所述滑轨以沿所述滑轨移动，所述隔板上开设有两排离子注入孔，两排所述离子注入孔的位置相互交叉错开，所述隔板的宽度小于所述托盘的宽度，所述硅片设于所述托盘上所述隔板的下方；初始时所述隔板的第一排所述离子注入孔对应所述硅片的第一位置；垂直输送缓冲区，所述垂直输送缓冲区连通所述水平进出传送区，所述垂直输送缓冲区用于垂直向上或向下运送所述托盘；单个水平传送区，所述单个水平传送区连通所述垂直输送缓冲区，所述单个水平传送区用于先后运送多个所述托盘；所述单个水平传送区依次具有第一离子注入工位、切换硅片位置工位及第二离子注入工位，所述第一离子注入工位用于在所述硅片的第一位置注入第一离子，所述切换硅片位置工位用于移动所述隔板以使所述隔板的第二排所述离子注入孔对应所述硅片的第二位置，所述第二离子注入工位用于在所述硅片的第二位置注入第二离子，所述第二位置相异于所述第一位置；所述第一离子注入工位相对所述第二离子注入工位较靠近所述垂直输送缓冲区；垂直输送储存区，所述垂直输送储存区连通所述单个水平传送区，用于垂直向上或向下运送所述托盘；真空发生器，所述真空发生器用于对所述水平进出传送区、垂直输送缓冲区及垂直输送储存区抽真空。