[实用新型]一种研磨垫调整器有效
申请号: | 201820646138.2 | 申请日: | 2018-05-03 |
公开(公告)号: | CN208231570U | 公开(公告)日: | 2018-12-14 |
发明(设计)人: | 黄珂明 | 申请(专利权)人: | 晶晨半导体(深圳)有限公司 |
主分类号: | B24B53/017 | 分类号: | B24B53/017 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 俞涤炯 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型提供一种研磨垫调整器,应用于化学研磨机,化学研磨机内部设置有研磨垫,其特征在于,包括研磨盘、连杆、研磨臂及驱动装置;研磨盘包括第一研磨盘与第二研磨盘,分别与研磨垫接触,沿预定路径进行旋转;第一研磨盘面向研磨垫的一面设置有凸出的复数个金刚石,第二研磨盘面向研磨垫的一面设置有复数个软刷;第一研磨盘与第二研磨盘对称分布于连杆的下方;研磨臂可移动地设置于连杆的上方;驱动装置连接研磨臂未连接研磨盘的一端。本实用新型的技术方案有益效果在于:增加多个研磨盘,分别设置金刚石与软刷,同时利用多个研磨盘对研磨垫表面修整及表面颗粒清洁进行二次处理,进一步提高研磨速率和效果。 | ||
搜索关键词: | 研磨盘 研磨垫 研磨 研磨臂 本实用新型 金刚石 化学研磨 驱动装置 调整器 复数 盘面 软刷 可移动地设置 表面颗粒 表面修整 对称分布 二次处理 内部设置 预定路径 速率和 凸出的 未连接 清洁 应用 | ||
【主权项】:
1.一种研磨垫调整器,应用于化学研磨机,所述化学研磨机内部设置有研磨垫,其特征在于,包括研磨盘、连杆、研磨臂及驱动装置;所述研磨盘包括第一研磨盘与第二研磨盘,分别与所述研磨垫接触,沿预定路径进行旋转;所述第一研磨盘面向所述研磨垫的一面设置有凸出的复数个金刚石,所述第二研磨盘面向所述研磨垫的一面设置有复数个软刷;所述第一研磨盘与所述第二研磨盘对称分布于所述连杆的下方;所述研磨臂可移动地设置于所述连杆的上方;所述驱动装置连接所述研磨臂未连接所述研磨盘的一端。
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