[实用新型]喷嘴有效
| 申请号： | 201820673596.5 | 申请日： | 2018-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN208298783U | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 侯文潭;郭士选 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供的喷嘴，包括：本体；中心进气孔，设于所述本体中，且所述中心进气孔的直径满足：能够破坏所述中心进气孔中的等离子体形成条件；边缘进气孔，设于所述本体中，且环绕在所述中心进气孔四周，并且所述边缘进气孔的直径满足：能够破坏所述边缘进气孔中的等离子体形成条件。本实用新型提供的喷嘴，其不会对自身内部刻蚀，避免对衬底刻蚀区域造成污染，同时延长自身使用寿命，并可使衬底刻蚀均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 进气孔 喷嘴 等离子体形成 本实用新型 衬底 刻蚀 刻蚀区域 使用寿命 环绕 污染 | ||
【主权项】：
1.一种喷嘴，其特征在于，包括：本体；中心进气孔，设于所述本体中，且所述中心进气孔的直径满足：能够破坏所述中心进气孔中的等离子体形成条件；边缘进气孔，设于所述本体中，且环绕在所述中心进气孔四周，并且所述边缘进气孔的直径满足：能够破坏所述边缘进气孔中的等离子体形成条件。
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