[实用新型]微型化线路有效

专利信息
申请号: 201820687744.9 申请日: 2018-05-09
公开(公告)号: CN208400849U 公开(公告)日: 2019-01-18
发明(设计)人: 曾彦豪;黄世颖;彭宥轩;徐伟智;王苇霖;黄文冠 申请(专利权)人: 希华晶体科技股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/02
代理公司: 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 代理人: 张雅军;史瞳
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供一种微型化线路,其包括一基板、一线路图案底层、一线路图案下层,及一线路图案上层。该线路图案底层形成于该基板的一表面上,且是由一第一金属所构成。该线路图案下层叠置于该线路图案底层上,且是由一第二金属所构成。该线路图案上层叠置于该线路图案下层上,且是由一有别于该第一金属的第三金属所构成。在本实用新型中,该线路图案底层是经一蚀刻剂所蚀刻取得,该蚀刻剂对该第一金属与该第三金属分别具有一第一蚀刻速率(R1)与一第二蚀刻速率(R2),且R1是远大于R2。
搜索关键词: 线路图案 金属 蚀刻 下层 微型化 本实用新型 蚀刻剂 基板 上层 底层形成
【主权项】:
1.一种微型化线路,其特征在于:包含:基板;线路图案底层,形成于该基板的表面上;线路图案下层,叠置于该线路图案底层上;及线路图案上层,叠置于该线路图案下层上;其中,该线路图案底层是由第一金属所构成,该线路图案下层是由第二金属所构成,该线路图案上层是由有别于该第一金属的第三金属所构成,且该线路图案底层是经一蚀刻剂所蚀刻取得,该蚀刻剂对该第一金属与该第三金属分别具有一第一蚀刻速率与一第二蚀刻速率,且第一蚀刻速率是远大于第二蚀刻速率。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于希华晶体科技股份有限公司,未经希华晶体科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201820687744.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top