[实用新型]一种电容耦合等离子体高分子表面处理装置有效
| 申请号： | 201820703668.6 | 申请日： | 2018-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN208497713U | 公开（公告）日： | 2019-02-15 |
| 发明（设计）人： | 詹铁锤;程光周;薛进;刘龙威 | 申请（专利权）人： | 合肥杰硕真空科技有限公司 |
| 主分类号： | B29C65/48 | 分类号： | B29C65/48;C08J7/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市经济技*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种电容耦合等离子体高分子材料表面处理装置，包括：等离子体表面处理真空室、前真空门、前观察窗、后真空门、后观察窗、上电容电极、下电容电极、进气接口、气体混合室、进气管路、进气室、进气缓冲挡板、材料放置架。本实用新型的一种电容耦合等离子体高分子材料表面处理装置，利用电容耦合等离子体稳定、均匀的优点，给高分子材料处理真空腔内提供稳定且均匀的等离子体处理环境；同时装置通过设置一进气混合装置，可提高通入混合气体时的气体混合效果，并提高气体进入真空室后分布的均匀性，保证处理效果的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 电容耦合等离子体 处理装置 高分子材料表面 本实用新型 均匀性 真空门 真空室 等离子体表面处理 等离子体处理 进气混合装置 材料放置架 高分子表面 高分子材料 气体混合室 下电容电极 电容电极 后观察窗 缓冲挡板 混合气体 进气管路 进气接口 气体混合 前观察窗 同时装置 进气室 真空腔 进气 保证 | ||
【主权项】：
1.一种电容耦合等离子体高分子表面处理装置，包括：等离子体表面处理真空室、前真空门、前观察窗、后真空门、后观察窗、上电容电极、下电容电极、进气接口、气体混合室、进气管路、进气室、进气缓冲挡板、材料放置架；其特征在于，所述等离子体表面处理真空室在前后侧设置真空门，所述上电容电极和下电容电极均放置于真空室内；所述放置架位于上电容电极与下电容电极之间；所述进气室位于真空室内，并设置于上电容电极上方；所述进气室通过进气管路与气体混合室连接，所述混合室外设置进气接口。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥杰硕真空科技有限公司，未经合肥杰硕真空科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201820703668.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种热熔器的温度双重保护结构
- 下一篇：魔术扣压合机
