[实用新型]一种基于动态温度补偿的控温发酵装置有效
| 申请号： | 201820723803.3 | 申请日： | 2018-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN208532806U | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 任志强;宗绪岩;黄治国;邓杰;卫春会;车露萍;李媛媛;潘强林 | 申请（专利权）人： | 四川理工学院 |
| 主分类号： | C12M1/38 | 分类号： | C12M1/38;C12M1/34;C12M1/16;C12M1/02;C12M1/00 |
| 代理公司： | 成都正华专利代理事务所(普通合伙) 51229 | 代理人： | 何凡 |
| 地址： | 643000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种基于动态温度补偿的控温发酵装置，装置包括不锈钢发酵槽和温控系统；不锈钢发酵槽外壁顶部设置有环形水槽，其中扣装有不锈钢盖；温控系统包括温度调节箱、若干温度传感器和中央处理器；温度调节箱的截面呈“凹”形，其内部为介质通道，两侧分别设有介质入口和介质出口，介质入口与介质温度调节部件相连接；温度传感器分别位于不锈钢发酵槽的中央、底板的中部以及侧壁的上部和下部；温度传感器与中央处理器信号连接；不锈钢发酵槽位于温度调节箱的凹槽内，且其外壁紧贴温度调节箱的凹槽内壁。该装置主要用于固态发酵。采用该结构的发酵装置，可以达到根据发酵物料中心温度对发酵装置进行动态温度补偿的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 温度调节箱 发酵槽 不锈钢 温度传感器 温度补偿 发酵装置 介质入口 控温发酵 温控系统 中央处理器信号 底板 介质温度调节 本实用新型 中央处理器 凹槽内壁 不锈钢盖 发酵物料 固态发酵 环形水槽 介质出口 介质通道 外壁顶部 侧壁 紧贴 | ||
【主权项】：
1.一种基于动态温度补偿的控温发酵装置，其特征在于：包括不锈钢发酵槽(1)和温控系统；所述不锈钢发酵槽(1)顶部设置有不锈钢盖(11)，绕所述不锈钢发酵槽(1)外壁顶部一周设置有环形水槽(12)，所述不锈钢盖(11)的边缘与注满水的环形水槽(12)密封配合；所述温控系统包括温度调节箱(2)、若干温度传感器(15)和中央处理器(4)；所述温度调节箱(2)的截面呈“凹”形，其内部为供温度交换介质流通的介质通道(23)，两侧分别设置有介质入口(21)和介质出口(22)，所述介质入口(21)与介质温度调节部件(3)相连接；所述温度传感器(15)设置于所述不锈钢发酵槽(1)内部，分别位于不锈钢发酵槽(1)的中央、底板的中部以及侧壁的上部和下部；所述温度传感器(15)与所述中央处理器(4)信号连接；所述不锈钢发酵槽(1)位于所述温度调节箱(2)的凹槽内，且不锈钢发酵槽(1)的外壁紧贴温度调节箱(2)的凹槽内壁。
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