[实用新型]一种工作台及背面对准装置有效
申请号: | 201820746378.X | 申请日: | 2018-05-18 |
公开(公告)号: | CN208400831U | 公开(公告)日: | 2019-01-18 |
发明(设计)人: | 蔡晨;王鑫鑫 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L21/687;H01L21/67 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型属于集成电路制造技术领域,具体公开了一种工作台及背面对准装置。工作台包括水平基座、气足、吸盘和第一导气组件;水平基座上开设有贯穿水平基座上表面的透光孔;气足设置在水平基座上,且能相对水平基座在水平面上移动,气足上间隔开设有多个第一通光孔,当气足在水平基座上移动时,多个第一通光孔能分别与透光孔导通;吸盘设置在气足上方,能相对气足进行三个自由度上的转动及沿垂直方向平移,吸盘对应于第一通光孔的位置开设有第二通光孔;第一导气组件,吸盘上表面设置有用于吸附基底的第一吸附气道,第一导气组件一端与气足连通,另一端与第一吸附气道连通。本实用新型提供的工作台及背面对准装置,结构简单,成本较低。 | ||
搜索关键词: | 气足 水平基座 通光孔 工作台 吸盘 导气组件 对准装置 背面 本实用新型 吸附气道 上表面 透光孔 连通 集成电路制造技术 间隔开设 吸盘设置 平移 上移动 导通 基底 吸附 转动 贯穿 移动 | ||
【主权项】:
1.一种工作台,其特征在于,包括:水平基座(1),其上开设有贯穿所述水平基座(1)上表面的透光孔(11),所述透光孔(11)内设置有第一透光片(12);气足(2),设置在所述水平基座(1)上,且能相对所述水平基座(1)在水平面上移动,所述气足(2)上间隔开设有多个第一通光孔(211),当所述气足(2)在所述水平基座(1)上移动时,多个所述第一通光孔(211)能分别与所述透光孔(11)导通;吸盘(5),设置在所述气足(2)上方,所述吸盘(5)能相对所述气足(2)进行三个自由度上的转动及能相对所述气足(2)沿垂直方向平移,所述吸盘(5)对应于所述第一通光孔(211)的位置开设有第二通光孔(51),所述第一通光孔(211)与所述第二通光孔(51)连通,所述第二通光孔(51)内设置有第二透光片(52),所述吸盘(5)上表面还设置有用于吸附基底(20)的第一吸附气道;第一导气组件(6),所述第一导气组件(6)一端与所述气足(2)内部连通,另一端与所述第一吸附气道连通。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造