[实用新型]单槽晶片净化清洗装置

摘要

本实用新型公开了一种单槽晶片净化清洗装置，它包括：机体外壳（5），可升降盖板（1），设置在机体外壳（5）内的清洗槽（11），开设在清洗槽（11）上的进液阀（14），与进液阀（14）相连的储液罐（12），安装在清洗槽（11）下方的超声波换能器（8），安装在清洗槽（11）侧壁上的电加热丝（13）和液位传感器（4）；可升降盖板（1）与安装在机体外壳（5）内的气压传动装置（17）相连，可升降盖板（1）底部安装有烘干装置（2）和载片架（3）。本实用新型结构设计合理，操作方便，自动化程度高，清洗效率高，可以一次装片，采用多种试剂进行清洗，然后烘干，可避免多槽清洗过程中转移晶片所造成的污染。

主权项

1.一种单槽晶片净化清洗装置，其特征在于：它包括：机体外壳(5)，可升降盖板(1)，设置在机体外壳(5)内的清洗槽(11)，开设在清洗槽(11)上的进液阀(14)，与进液阀(14)通过导液管(16)相连的储液罐(12)，安装在清洗槽(11)下方的超声波换能器(8)，安装在清洗槽(11)侧壁上的电加热丝(13)和液位传感器(4)；可升降盖板(1)与安装在机体外壳(5)内的液压升降装置或气压传动装置(17)相连，可升降盖板(1)底部安装有烘干装置(2)和载片架(3)；清洗槽(11)底部开设有第一排液口(7)；所述的电加热丝(13)、液位传感器(4)、气压传动装置(17)、超声波换能器(8)和进液阀(14)均与控制面板(6)相连。