[实用新型]一种自动出料的系统有效
| 申请号： | 201820826607.9 | 申请日： | 2018-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN208562515U | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 纪幸辰 | 申请（专利权）人： | 深圳市硅光半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/52 |
| 代理公司： | 深圳市深联知识产权代理事务所(普通合伙) 44357 | 代理人： | 杨静 |
| 地址： | 518040 广东省深圳市福田区沙头*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提出了一种自动出料的系统，用于含硅薄膜的制备，包括：第一机械手、反应炉、控制器、与所述的控制器相连接的温度传感器，所述的温度传感器设置于所述的反应炉中，所述的控制器能控制所述的机械手的运转或停止，所述的第一机械手用于抓取所述的反应炉中的含硅薄膜成品于预设位置。实施本实用新型的技术方案中，通过自动取出含硅薄膜的成品，解放了人力，实现了自动化生产和无人管理。 | ||
| 搜索关键词： | 机械手 含硅薄膜 控制器 反应炉 本实用新型 温度传感器 自动出料 抓取 自动化生产 无人管理 预设位置 制备 取出 运转 | ||
【主权项】：
1.一种自动出料的系统，用于含硅薄膜的制备，其特征在于，包括：第一机械手、反应炉、控制器、与所述的控制器相连接的温度传感器，所述的温度传感器设置于所述的反应炉中，所述的控制器能控制所述的第一机械手的启动或停止，所述的第一机械手用于抓取所述的反应炉中的含硅薄膜于预设位置。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
