[实用新型]一种端面处理装置有效
申请号: | 201820911098.X | 申请日: | 2018-06-13 |
公开(公告)号: | CN208293082U | 公开(公告)日: | 2018-12-28 |
发明(设计)人: | 王威;安海岩;王虎 | 申请(专利权)人: | 武汉锐晶激光芯片技术有限公司 |
主分类号: | C23C22/73 | 分类号: | C23C22/73;C23C22/78 |
代理公司: | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人: | 刘杰 |
地址: | 430000 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种端面处理装置,包括按样品处理工艺依次连通的进样腔、预处理腔、解理腔和钝化腔,以及用于传送样品的第一传送机构、第二传送机构和第三传送机构;进样腔、预处理腔和第一传送机构均设置有两个,能够满足两轮样品分别存放的要求,在上一轮样品处理过程中可以进行下一轮样品的加热烘烤,节省了两轮工艺间的等待时间,显著缩短系列工艺过程中的时间成本,提升整机使用效率,提高设备产能。两个进样腔结构相同,均包括腔体、样品台和进样加热装置,通过进样加热装置对样品进行高温烘烤,可以去除样品上依附的空气中的水汽和杂质,减少外界环境杂质对真空腔室的污染。 | ||
搜索关键词: | 传送机构 进样腔 端面处理装置 加热装置 预处理腔 进样 样品处理过程 本实用新型 高温烘烤 工艺过程 加热烘烤 设备产能 时间成本 使用效率 外界环境 样品处理 依次连通 真空腔室 水汽 样品台 钝化 解理 腔体 去除 整机 依附 传送 污染 | ||
【主权项】:
1.一种端面处理装置,包括按样品处理工艺依次连通的进样腔、预处理腔、解理腔和钝化腔,以及用于传送所述样品的第一传送机构、第二传送机构和第三传送机构;所述第一传送机构设置于所述进样腔与所述预处理腔中;所述第二传送机构设置于所述预处理腔与所述解理腔中;所述第三传送机构设置于所述解理腔与所述钝化腔中;其特征在于:所述进样腔、所述预处理腔和所述第一传送机构均设置有两个,所述第二传送机构设置于两个所述预处理腔与所述解理腔中;两个所述进样腔结构相同,均包括腔体、样品台和进样加热装置;所述腔体上开设有进样通口,所述进样通口上安装有腔门,所述样品台和所述进样加热装置均设置于所述腔体中。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理,例如转化层、金属的钝化
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