[实用新型]配置辅助阳极的低温沉积设备有效
| 申请号： | 201820963667.5 | 申请日： | 2018-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN208717429U | 公开（公告）日： | 2019-04-09 |
| 发明（设计）人： | 朱刚毅;朱刚劲;朱文廓 | 申请（专利权）人： | 广东腾胜真空技术工程有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 官国鹏 |
| 地址： | 526060 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及配置辅助阳极的低温沉积设备，包括真空室和均置于真空室内的柔性基材、放卷辊、第一导辊、水冷鼓、第二导辊、收卷辊、多对磁控靶、多个辅助阳极；柔性基材依次绕过放卷辊、第一导辊、水冷鼓、第二导辊、收卷辊；多对磁控靶沿着水冷鼓圆周表面的圆周方向依次布置，每对磁控靶之间布置一个辅助阳极；第一导辊和第二导辊对称设置在真空室内，放卷辊和收卷辊对称设置在真空室内，水冷鼓设置在真空室的中心。本实用新型还涉及另外一种配置辅助阳极的低温沉积设备，低温沉积设备可以避免二次电子轰击到基材上，属于基材镀膜的技术领域。 | ||
| 搜索关键词： | 导辊 辅助阳极 低温沉积 水冷 磁控靶 放卷辊 收卷辊 本实用新型 对称设置 柔性基材 真空室 室内 配置 二次电子 基材镀膜 依次布置 基材 绕过 轰击 | ||
【主权项】：
1.配置辅助阳极的低温沉积设备，其特征在于：包括真空室和均置于真空室内的柔性基材、放卷辊、第一导辊、水冷鼓、第二导辊、收卷辊、多对磁控靶、多个辅助阳极；柔性基材依次绕过放卷辊、第一导辊、水冷鼓、第二导辊、收卷辊；多对磁控靶沿着水冷鼓圆周表面的圆周方向依次布置，每对磁控靶之间布置一个辅助阳极；第一导辊和第二导辊对称设置在真空室内，放卷辊和收卷辊对称设置在真空室内，水冷鼓设置在真空室的中心。
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