[实用新型]一种磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201820969086.2 | 申请日： | 2018-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN208762572U | 公开（公告）日： | 2019-04-19 |
| 发明（设计）人： | 刘洋;汪振南;雷绍温;杨永雷;见东伟;张伟;邬英;刘福山;韩晓琳 | 申请（专利权）人： | 山西米亚索乐装备科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 11447 | 代理人： | 陈庆超;桑传标 |
| 地址： | 037000 山西*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁控溅射设备，包括：设置在设备的真空腔室(1)内的网状屏蔽板(2)；真空腔室(1)内包括一个或多个镀膜腔(3)，网状屏蔽板设置在镀膜腔(3)内的侧壁上，镀膜腔(3)内的侧壁还设置有防护板(4)，网状屏蔽板(2)设置在防护板(4)外侧。防护板(4)和屏蔽板(3)对磁控溅射靶(5)本身磁场和外部的干扰磁场形成高效电磁屏蔽，有利于磁控溅射靶(5)的平稳运行，同时避免了真空腔室(1)的气体污染，而且安装和拆卸简单而快速。本实用新型为磁溅射设备生产线提供了重要的解决方案和途径。 | ||
| 搜索关键词： | 网状屏蔽 真空腔室 镀膜腔 防护板 磁控溅射设备 本实用新型 磁控溅射靶 侧壁 干扰磁场 高效电磁 溅射设备 平稳运行 气体污染 板设置 屏蔽板 屏蔽 拆卸 磁场 外部 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射设备，其特征在于，包括：设置在所述设备的真空腔室(1)内的网状屏蔽板(2)；所述真空腔室(1)内包括一个或多个镀膜腔(3)，所述网状屏蔽板设置在所述镀膜腔(3)内的侧壁上。
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