[实用新型]一种硅片的超声波清洗装置有效
| 申请号： | 201820969507.1 | 申请日： | 2018-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN208643504U | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 许小兵;谢静;刘俊;龙婉蓉;罗华丽;王晨熹 | 申请（专利权）人： | 中国振华集团永光电子有限公司（国营第八七三厂） |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 贵阳睿腾知识产权代理有限公司 52114 | 代理人： | 谷庆红 |
| 地址： | 550018 贵州省*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种硅片的超声波清洗装置，属于硅片清洗技术领域。该装置包括超声波清洗机、定位架、石英壶、放置架、进水管、排水管，所述定位架放置于超声波清洗机中，所述石英壶放置于定位架中，所述放置架放置于石英壶内，所述进水管设置于石英壶上方，所述超声波清洗机底部设置有排水管。本实用新型提供的超声波清洗装置可以及时清理从硅片表面脱离后悬浮于去离子水中的杂质，避免给已清洗的硅片造成二次污染，且清洗效果好，操作方便，清洗期间不用人员看守，省时省力。 | ||
| 搜索关键词： | 石英 超声波清洗装置 超声波清洗机 定位架 硅片 本实用新型 排水管 放置架 进水管 清洗 二次污染 硅片表面 硅片清洗 清洗效果 去离子水 人员看守 省时 省力 悬浮 脱离 | ||
【主权项】：
1.一种硅片的超声波清洗装置，其特征在于：包括超声波清洗机(1)、定位架(2)、石英壶(3)、放置架(4)、进水管(5)、排水管(6)，所述定位架(2)放置于超声波清洗机(1)中，所述石英壶(3)放置于定位架(2)中，所述放置架(4)放置于石英壶(3)内，所述进水管(5)设置于石英壶(3)上方，所述超声波清洗机(1)底部设置有排水管(6)。
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