[实用新型]基片传输系统有效
| 申请号： | 201821086946.4 | 申请日： | 2018-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN208762575U | 公开（公告）日： | 2019-04-19 |
| 发明（设计）人： | 刘成林 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C30B25/12;H01L21/677 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种基片传输系统，包括：承载装置，用于在进行工艺时承载基片；顶针装置，用于在对基片进行取放时承载基片；升降装置，用于驱动承载装置或者顶针装置上升或下降，以能够在承载装置与顶针装置之间传递基片；机械手，能够通过作水平运动和升降运动将基片传递至顶针装置，或者自顶针装置取出基片。其不仅能够降低取放基片的时间，而且能够减小升降误差，从而提高生产效率，并提高硅片工艺结果的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 顶针装置 承载装置 基片传输系统 承载基片 取放 本实用新型 机械手 工艺结果 生产效率 升降运动 升降装置 水平运动 传递 硅片 减小 升降 取出 驱动 | ||
【主权项】：
1.一种基片传输系统，其特征在于，包括：承载装置，用于在进行工艺时承载基片；顶针装置，用于在对基片进行取放时承载基片；升降装置，用于驱动所述承载装置或者顶针装置上升或下降，以能够在所述承载装置与顶针装置之间传递基片；机械手，能够通过作水平运动和升降运动将所述基片传递至所述顶针装置，或者自所述顶针装置取出基片。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
