[实用新型]一种梯度线圈及磁共振成像装置有效
| 申请号： | 201821115594.0 | 申请日： | 2018-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN209946363U | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 彭卫平;岳振华;任仲友 | 申请（专利权）人： | 西门子(深圳)磁共振有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/385 | 分类号： | G01R33/385 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518057 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种梯度线圈及磁共振成像装置，其包括具有环形开口端面的中空圆筒状的主体，其包括：用于插装第一匀场条的多个第一匀场孔，沿所述环形端面的周向设置于所述环形端面，并沿所述主体的轴向延伸；用于插装第二匀场条的多个第二匀场孔，沿所述环形端面的周向设置于所述环形端面，并沿所述主体的轴向延伸；所述第一匀场孔与所述第二匀场孔在所述环形端面的周向上分别设置为环状，且在所述环形端面的径向上离开地设置在不同位置。 | ||
| 搜索关键词： | 匀场 环形端 环形端面 周向设置 轴向延伸 插装 磁共振成像装置 本实用新型 中空圆筒状 环形开口 梯度线圈 | ||
【主权项】：
1.一种梯度线圈，其包括具有环形端面的中空圆筒状的主体，其特征在于，包括：/n用于插装第一匀场条的多个第一匀场孔，沿所述环形端面的周向设置于所述环形端面，并沿所述主体的轴向延伸；/n用于插装第二匀场条的多个第二匀场孔，沿所述环形端面的周向设置于所述环形端面，并沿所述主体的轴向延伸；/n所述第一匀场孔与所述第二匀场孔在所述环形端面的周向上分别设置为环状，且在所述环形端面的径向上离开地设置在不同位置，/n所述第一匀场孔与所述第二匀场孔以沿所述环形端面的径向相对的方式配置在所述环形端面的同一周向位置处，/n所述第一匀场孔与所述第二匀场孔之间通过通孔相连。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西门子(深圳)磁共振有限公司，未经西门子(深圳)磁共振有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201821115594.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
