[实用新型]一种用于真空镀膜的颗粒物清洁系统有效
| 申请号： | 201821166799.1 | 申请日： | 2018-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN208776820U | 公开（公告）日： | 2019-04-23 |
| 发明（设计）人： | 林雨 | 申请（专利权）人： | 东泰高科装备科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹;吴欢燕 |
| 地址： | 102209 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及半导体生产技术领域，尤其涉及一种用于真空镀膜的颗粒物清洁系统。该用于真空镀膜的颗粒物清洁系统至少包括离子风棒以及与所述离子风棒连接的离子发生器，其中所述离子风棒安装在真空镀膜设备的腔室入口处。本实用新型所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，通过在真空镀膜设备的腔室入口处沿竖直向安装离子风棒，将离子风棒与离子发生器相连，使得待镀膜基板在进入真空镀膜设备过程中，能够通过离子风棒有效的去除待镀膜基板的静电和细小颗粒物，进而提高良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 离子风棒 清洁系统 真空镀膜 颗粒物 真空镀膜设备 本实用新型 待镀膜基板 离子发生器 入口处 腔室 半导体生产技术 细小颗粒物 静电 良品率 竖直 去除 | ||
【主权项】：
1.一种用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，其特征在于：至少包括离子风棒以及与所述离子风棒连接的离子发生器，其中所述离子风棒安装在真空镀膜设备的腔室入口处。
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