[实用新型]一种窄带滤光片及光学系统有效
| 申请号： | 201821191900.9 | 申请日： | 2018-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN208477138U | 公开（公告）日： | 2019-02-05 |
| 发明（设计）人： | 陈信源;何伟峰;温勇健 | 申请（专利权）人： | 广州市佳禾光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/22 | 分类号： | G02B5/22;G02B5/20;G02B1/115 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 谭英强;郑泽萍 |
| 地址： | 510535 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种窄带滤光片及光学系统，该窄带滤光片包括吸收基层、设置在吸收基层下方的滤光叠层以及设置在吸收基层上方的抗反射叠层；所述抗反射叠层由五氧化三钛层和二氧化硅层交替堆叠构成；所述滤光叠层由二氧化硅层和硅层交替堆叠构成。本实用新型可以实现对红外光波段的较好的滤光效果，使得光线经滤光后带宽较窄，而且制造工艺较为简单，成本较低，可广泛应用于各种光学系统中。 | ||
| 搜索关键词： | 窄带滤光片 光学系统 滤光 本实用新型 二氧化硅层 抗反射叠层 交替堆叠 叠层 吸收 红外光波段 基层 滤光效果 制造工艺 硅层 钛层 带宽 应用 | ||
【主权项】：
1.一种窄带滤光片，其特征在于，包括吸收基层、设置在吸收基层下方的滤光叠层以及设置在吸收基层上方的抗反射叠层；所述抗反射叠层由五氧化三钛层和二氧化硅层交替堆叠构成；所述滤光叠层由二氧化硅层和硅层交替堆叠构成。
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