[实用新型]磁控溅射装置以及具有其的磁控溅射系统有效
| 申请号： | 201821236514.7 | 申请日： | 2018-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN208545486U | 公开（公告）日： | 2019-02-26 |
| 发明（设计）人： | 张扬;袁广才;周斌;王庆贺;苏同上;李广耀;程磊磊;黄勇潮;罗标 | 申请（专利权）人： | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 黄德海 |
| 地址： | 230012 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁控溅射装置以及具有其的磁控溅射系统，磁控溅射装置包括；外屏蔽罩、承载台、内屏蔽罩以及溅射机构，外屏蔽罩内限定出容纳腔，承载台用于固定待镀膜的基板，内屏蔽罩、承载台均设于容纳腔内，内屏蔽罩具有工作窗口，承载台在内屏蔽罩的外侧与工作窗口相对设置，溅射机构设于内屏蔽罩内，溅射机构包括多个磁控溅射靶以及用于安装多个磁控溅射靶的可移动的支座，支座可活动地设于内屏蔽罩内，支座被构造成可移动以使不同的磁控溅射靶轮流通过工作窗口与承载台相对。由此，通过设置溅射机构，不仅可以提高对基板的成膜均匀性，改善、甚至消除Target Mura(靶向不均匀)，而且使基板的Vth均一性较高，可以提高基板的显示特性。 | ||
| 搜索关键词： | 内屏蔽罩 承载台 溅射 磁控溅射装置 磁控溅射靶 工作窗口 基板 磁控溅射系统 外屏蔽罩 可移动 容纳腔 本实用新型 成膜均匀性 显示特性 相对设置 不均匀 对基板 均一性 可活动 屏蔽罩 靶向 镀膜 轮流 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射装置，其特征在于，包括；外屏蔽罩，所述外屏蔽罩内限定出容纳腔；承载台，所述承载台用于固定待镀膜的基板；内屏蔽罩，所述内屏蔽罩、所述承载台均设于所述容纳腔内，所述内屏蔽罩具有工作窗口，所述承载台在所述内屏蔽罩的外侧与所述工作窗口相对设置；溅射机构，所述溅射机构设于所述内屏蔽罩内，所述溅射机构包括多个磁控溅射靶以及用于安装多个所述磁控溅射靶的可移动的支座，所述支座可活动地设于所述内屏蔽罩内，所述支座被构造成可移动以使不同的磁控溅射靶轮流通过工作窗口与所述承载台相对。
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