[实用新型]一种用于物理气相沉积的电介质沉积的设备

摘要

本实用新型公开了一种用于物理气相沉积的电介质沉积的设备，包括装置外壳和抽真空装置，装置外壳位于抽真空装置正上方位置处，装置外壳与抽真空装置焊接固定，且装置外壳与抽真空装置之间相连通，利用设置的靶材与钨丝的配合，实现对于气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物蒸镀在基材上，同时呈弧形的电热管实现对于真空镀膜室内部的高温提供。

主权项

1.一种用于物理气相沉积的电介质沉积的设备，包括装置外壳(1)和抽真空装置(7)，所述装置外壳(1)位于抽真空装置(7)正上方位置处，所述装置外壳(1)与抽真空装置(7)焊接固定，且所述装置外壳(1)与抽真空装置(7)之间相连通，其特征在于：所述装置外壳(1)上表面中心位置处设置有控制系统(2)，所述控制系统(2)与装置外壳(1)上表面中心位置固定连接，所述装置外壳(1)内部下底端位置处设置有真空镀膜室(4)，所述真空镀膜室(4)固定于装置外壳(1)内底端中心处，所述真空镀膜室(4)上顶面设置有固定底板(3)，所述固定底板(3)与真空镀膜室(4)上顶面焊接固定，所述固定底板(3)两侧顶端位置处与装置外壳(1)内壁焊接固定，所述真空镀膜室(4)内部上顶面位置处设置有基材固定架(16)，所述基材固定架(16)上顶面与固定底板(3)螺钉连接，所述真空镀膜室(4)两侧位置处设置有电热管(17)，所述电热管(17)上顶端与固定底板(3)固定连接，所述真空镀膜室(4)内部中心位置处设置有靶材(18)，所述靶材(18)外端面缠绕有钨丝(19)，所述靶材(18)两侧端中心位置设置有高电流线路(20)，所述基材固定架(16)下表面两侧端位置处设置有滑动导轨(21)，所述滑动导轨(21)两侧端与基材固定架(16)内壁焊接固定，所述滑动导轨(21)共有两组，所述基材固定架(16)中心位置设置有基材固定板(22)，所述基材固定板(22)四角位置处设置有滑块(24)，所述滑块(24)与基材固定板(22)螺钉连接，所述真空镀膜室(4)下底面一侧位置处固定连接有预抽真空管道(5)，所述预抽真空管道(5)连通至装置外壳(1)外端，所述预抽真空管道(5)中心位置处设置有真空电磁阀(6)，所述真空电磁阀(6)与预抽真空管道(5)固定连接，所述预抽真空管道(5)下底端与抽真空装置(7)焊接固定，且所述预抽真空管道(5)下底端与抽真空装置(7)内部连通，所述抽真空装置(7)内部下底面一侧端设置有高真空抽气管道(12)，所述高真空抽气管道(12)外顶端位置处设置有真空泵(13)，所述真空泵(13)与高真空抽气管道(12)焊接固定，所述高真空抽气管道(12)上顶端焊接固定有缓冲管道(11)，所述缓冲管道(11)上顶端位置处设置有高真空阀(9)，且所述高真空阀(9)与预抽真空管道固定连通，所述高真空阀(9)内部一侧固定连接有水冷循环管(10)，所述高真空阀(9)与缓冲管道(11)焊接固定，所述高真空阀(9)另一侧顶端连通有排气管道(15)，所述排气管道(15)与高真空阀(9)固定连接，所述排气管道(15)中心位置处设置有排气阀(14)，所述排气阀(14)与排气管道(15)外壁固定连接。