[实用新型]西瓜接穗培育装置有效
申请号: | 201821346955.2 | 申请日: | 2018-08-21 |
公开(公告)号: | CN208807249U | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | 李慧;孟秀芳;拓明贤;刘芳;陈美玲;张育才;谢小兰;朱爱荣;李生伏 | 申请(专利权)人: | 宁夏塞上江南农业科技有限公司 |
主分类号: | A01G22/05 | 分类号: | A01G22/05;A01G24/00;A01G24/46;A01G24/15;A01G7/04 |
代理公司: | 宁夏合天律师事务所 64103 | 代理人: | 孙彦虎 |
地址: | 755000 宁夏回族自治区中卫市沙*** | 国省代码: | 宁夏;64 |
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摘要: | 一种西瓜接穗培育装置,包括从下向上依次设置的保温层、恒温层、保湿层、营养层、纱网层、覆盖层,保温层为发热体,为西瓜接穗生长提供适宜温度,恒温层覆盖于保温层上方,以使保温层散发的热量均匀一致向上传递,保湿层为不透水层,以对西瓜接穗生长提供水分,营养层为疏松基质层,纱网层覆盖于营养层上方,以将播撒于纱网层上的种子与营养层隔开,纱网层上开设网孔,供种子的根系向下生长至营养层内部,覆盖层为疏松基质层,以将种子覆盖,本实用新型中,在西瓜接穗长成后,西瓜的根系生长在纱网层的下方,在拔出时,由于纱网层的阻挡作用,使得西瓜接穗根须上附着的培养土或基质物质被滤下,不会随着西瓜茎被带出。 | ||
搜索关键词: | 纱网层 西瓜 营养层 接穗 保温层 接穗生长 培育装置 保湿层 覆盖层 恒温层 基质层 疏松 本实用新型 不透水层 根系生长 基质物质 热量均匀 向下生长 依次设置 种子覆盖 发热体 培养土 拔出 附着 隔开 根系 根须 网孔 覆盖 播撒 阻挡 散发 传递 | ||
【主权项】:
1.一种西瓜接穗培育装置,其特征在于:包括从下向上依次设置的保温层、恒温层、保湿层、营养层、纱网层、覆盖层,保温层为发热体,为西瓜接穗生长提供适宜温度,恒温层覆盖于保温层上方,以使保温层散发的热量均匀一致向上传递,保湿层为不透水层, 以对西瓜接穗生长提供水分,营养层为疏松基质层,纱网层覆盖于营养层上方,以将播撒于纱网层上的种子与营养层隔开,纱网层上开设网孔,供种子的根系向下生长至营养层内部,覆盖层为疏松基质层,以将种子覆盖。
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