[实用新型]西瓜接穗培育装置有效

专利信息
申请号: 201821346955.2 申请日: 2018-08-21
公开(公告)号: CN208807249U 公开(公告)日: 2019-05-03
发明(设计)人: 李慧;孟秀芳;拓明贤;刘芳;陈美玲;张育才;谢小兰;朱爱荣;李生伏 申请(专利权)人: 宁夏塞上江南农业科技有限公司
主分类号: A01G22/05 分类号: A01G22/05;A01G24/00;A01G24/46;A01G24/15;A01G7/04
代理公司: 宁夏合天律师事务所 64103 代理人: 孙彦虎
地址: 755000 宁夏回族自治区中卫市沙*** 国省代码: 宁夏;64
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种西瓜接穗培育装置,包括从下向上依次设置的保温层、恒温层、保湿层、营养层、纱网层、覆盖层,保温层为发热体,为西瓜接穗生长提供适宜温度,恒温层覆盖于保温层上方,以使保温层散发的热量均匀一致向上传递,保湿层为不透水层,以对西瓜接穗生长提供水分,营养层为疏松基质层,纱网层覆盖于营养层上方,以将播撒于纱网层上的种子与营养层隔开,纱网层上开设网孔,供种子的根系向下生长至营养层内部,覆盖层为疏松基质层,以将种子覆盖,本实用新型中,在西瓜接穗长成后,西瓜的根系生长在纱网层的下方,在拔出时,由于纱网层的阻挡作用,使得西瓜接穗根须上附着的培养土或基质物质被滤下,不会随着西瓜茎被带出。
搜索关键词: 纱网层 西瓜 营养层 接穗 保温层 接穗生长 培育装置 保湿层 覆盖层 恒温层 基质层 疏松 本实用新型 不透水层 根系生长 基质物质 热量均匀 向下生长 依次设置 种子覆盖 发热体 培养土 拔出 附着 隔开 根系 根须 网孔 覆盖 播撒 阻挡 散发 传递
【主权项】:
1.一种西瓜接穗培育装置,其特征在于:包括从下向上依次设置的保温层、恒温层、保湿层、营养层、纱网层、覆盖层,保温层为发热体,为西瓜接穗生长提供适宜温度,恒温层覆盖于保温层上方,以使保温层散发的热量均匀一致向上传递,保湿层为不透水层, 以对西瓜接穗生长提供水分,营养层为疏松基质层,纱网层覆盖于营养层上方,以将播撒于纱网层上的种子与营养层隔开,纱网层上开设网孔,供种子的根系向下生长至营养层内部,覆盖层为疏松基质层,以将种子覆盖。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁夏塞上江南农业科技有限公司,未经宁夏塞上江南农业科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201821346955.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top