[实用新型]精细金属掩模的制造系统有效
申请号: | 201821354396.X | 申请日: | 2018-08-22 |
公开(公告)号: | CN208898974U | 公开(公告)日: | 2019-05-24 |
发明(设计)人: | 石清堉 | 申请(专利权)人: | 鋆洤科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 薛琦 |
地址: | 中国台湾桃园市龟*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种精细金属掩模的制造系统,具有邻接的溅镀设备、第一图案化光阻成形设备、电铸设备、第一去光阻机、第二图案化光阻成形设备、蚀刻机以及末端处理设备。 | ||
搜索关键词: | 精细金属掩模 成形设备 图案化光 制造系统 电铸设备 溅镀设备 末端处理 邻接 光阻机 蚀刻机 | ||
【主权项】:
1.一种精细金属掩模的制造系统,其特征在于,包括:一溅镀设备,适于溅镀形成一金属层于一玻璃基板上;一第一图案化光阻成形设备,邻接于该溅镀设备,适于形成一第一图案化光阻层于该金属层上,且该第一图案化光阻层暴露出该金属层的一第一金属表面;一电铸设备,邻接于该第一图案化光阻成形设备,适于电铸形成一电铸层于该第一金属表面上,该电铸层具有一第一电铸表面、一第二电铸表面及一第三电铸表面,该第二电铸表面连接该第一电铸表面与该第三电铸表面,该第三电铸表面与该第一金属表面相接;一第一去光阻机,邻接于该电铸设备,适于移除该第一图案化光阻层;一第二图案化光阻成形设备,邻接于该第一去光阻机,适于形成一第二图案化光阻层于该第一电铸表面及该金属层的一第二金属表面上,其中,该第二图案化光阻层暴露出该第二电铸表面及该金属层的一第三金属表面,该第三金属表面连接该第一金属表面及该第二金属表面,且邻接于该第二电铸表面;一蚀刻机,邻接于该第二图案化光阻成形设备,适于蚀刻该第二电铸表面,以得到一经蚀刻的第二电铸表面;一末端处理设备,邻接于该蚀刻机,适于移除该第二图案化光阻层、该金属层及该玻璃基板,以获得该精细金属掩模,该精细金属掩模包括该第一电铸表面、该经蚀刻的第二电铸表面、该第三电铸表面以及一掩模图案,该经蚀刻的第二电铸表面连接该掩模图案,且该掩模图案具有一邻接于该第一电铸表面的第一开口部以及一邻接于该第三电铸表面的第二开口部。
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