[实用新型]一种单片清洗的单晶硅片清洗装置

摘要

本实用新型公开了一种单片清洗的单晶硅片清洗装置，包括清洗槽，所述清洗槽内设有清洗支架，清洗支架包括底板和侧板，底板的前后两侧固连两个侧板，底板与两个侧板构成一个长条形的滑道，侧板的底部与底板固连，两个侧板和底板的中间部分均开有通孔，清洗支架的中间部分的上方设有喷水管，喷水管的底部设有三个喷水头，喷水头对准底板的中间部位；清洗支架的右侧设有上料机构；该单片清洗的单晶硅片清洗装置利用滑道使单晶硅片排列逐个经过喷水头冲洗，避免重叠，清洗效率高。

主权项

1.一种单片清洗的单晶硅片清洗装置，包括清洗槽，其特征在于，所述清洗槽内设有清洗支架，清洗支架包括底板和侧板，底板的前后两侧固连两个侧板，底板与两个侧板构成一个长条形的滑道，侧板的底部与底板固连，两个侧板和底板的中间部分均开有通孔，清洗支架的中间部分的上方设有喷水管，喷水管的底部设有三个喷水头，喷水头对准底板的中间部位；清洗支架的右侧设有上料机构，上料机构包括推杆，推杆的左端插入清洗支架的右端，推杆的底部通过滑块安装于滑轨上，滑轨的底部固定安装于底座上，推杆的右端与第二连杆的一端铰接，第二连杆的另一端与第一连杆的一端铰接，第一连杆的另一端固定连接电机的输出轴，电机通过电机座安装于底座上。