[实用新型]一种稳定镀膜的载片装置

摘要

本实用新型公开了一种用于硅片的表面镀减反射膜的稳定镀膜的载片装置，其包括：石英托架，设于该石英托架中的石墨舟片组件，该石墨组件由垂直所述石英托架轴线的石墨舟片间隔连接而成。本实用新型使得石墨组件的石墨舟片垂直于石英托架的轴线设置。当该载片装置送入石英炉管时，石墨舟片与石英炉管的轴线垂直，有效地避免了左右两侧石墨舟片对加热炉管热量向中心辐射的阻挡，从而保证处于石墨舟片之间的硅片减反射膜镀膜均匀和工艺的稳定性，以提升PECVD反应炉的产能。

主权项

1.一种稳定镀膜的载片装置，其特征在于，包括石英托架，设于该石英托架中的石墨舟片组件，该石墨组件由垂直所述石英托架轴线的石墨舟片间隔连接而成；所述的石英托架包括两侧板、连接该两侧板上部的两根上槽棒，连接该两侧板下部的至少一根下槽棒，所述的上槽棒分别设于所述两侧板的横向两侧，所述侧板的下侧边设有对应卡入所述石墨舟片组件的卡槽。