[实用新型]一种GPP二极管芯片玻璃钝化自动擦粉机有效
申请号: | 201821527443.6 | 申请日: | 2018-09-19 |
公开(公告)号: | CN208985958U | 公开(公告)日: | 2019-06-14 |
发明(设计)人: | 李健儿;冯艾诚;冯永;颜英慧;胡仲波;鲜贵容 | 申请(专利权)人: | 四川上特科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 621000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开一种GPP二极管芯片玻璃钝化自动擦粉机,该自动擦粉机包括自动传输系统、自动擦粉系统、物料回收系统以及真空及排风系统;该自动传输系统用于传输GPP二极管芯片的晶圆片,该自动擦粉系统能够在该晶圆片传输过程中,通过其内部的可调变速擦粉电机对该晶圆片的表面进行擦拭以清除该表面上的粉末,该真空及排风系统能够对擦拭清除得到的粉末进行吸附收集,而吸附收集后的粉末会被该物料回收系统进行回收处理,该自动擦粉机能够有效地避免人工擦粉所带来的不确定性,并且还能够防止粉末漂浮扩散对人体造成伤害和提高粉末的回收利用率。 | ||
搜索关键词: | 自动擦粉机 晶圆片 物料回收系统 自动传输系统 玻璃钝化 排风系统 吸附 擦拭 本实用新型 不确定性 传输过程 粉末漂浮 回收处理 变速 有效地 可调 电机 扩散 传输 回收 伤害 | ||
【主权项】:
1.一种GPP二极管芯片玻璃钝化自动擦粉机,其特征在于,包括自动传输系统、自动擦粉系统、物料回收系统、真空及排风系统;所述自动传输系统用于沿着从上游至下游的传输方向传送晶圆片,所述自动擦粉系统设置在所述自动传输系统的部分传输路径上,所述晶圆片在传输过程中穿过所述自动擦粉系统,所述自动擦粉系统对所述晶圆片实施擦粉处理;所述真空及排风系统设置在所述自动传输系统的整个传输路径上,其能够对所述晶圆片被实施所述擦粉处理后产生的粉末进行吸附收集;所述物料回收系统与所述真空及排风系统之间机械连接,所述物料回收系统用于回收所述真空及排风系统吸附收集后所得到的所述粉末。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川上特科技有限公司,未经四川上特科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201821527443.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造