[实用新型]晶圆中心校准装置及应用其的光刻机有效

专利信息
申请号: 201821537253.2 申请日: 2018-09-20
公开(公告)号: CN208922066U 公开(公告)日: 2019-05-31
发明(设计)人: 张成安;魏纯;肖乐 申请(专利权)人: 深圳市矽电半导体设备有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518172 广东省深圳市龙岗区龙城街*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及晶圆校准技术领域,更具体地说,它涉及一种晶圆中心校准装置及应用其的光刻机,其技术方案要点是:一种晶圆中心校准装置,其包括机架,所述机架上设有校准件以及用于承载晶圆的承载台;所述校准件具有校准孔;所述承载台可相对所述校准孔伸缩运动,以在运动时将晶圆从外部传送至所述校准孔内,使所述校准孔对所述晶圆的中心进行校准。根据本实用新型提供的技术方案,通过在校准件上设置校准孔,承载台相对校准孔伸缩运动时可以将晶圆从外部传送至校准孔内,使校准孔对晶圆的中心进行校准。由于通过校准件上的校准孔即可对晶圆的中心进行校准,其结构相对较简单,实施起来较方便。
搜索关键词: 校准孔 晶圆 校准装置 承载台 校准件 校准 本实用新型 伸缩运动 光刻机 圆中心 种晶 传送 技术方案要点 晶圆中心 校准技术 外部 应用 承载
【主权项】:
1.一种晶圆中心校准装置,其特征在于,包括机架(1),所述机架(1)上设有校准件(22)以及用于承载晶圆的承载台(21);所述校准件(22)具有校准孔(23);所述承载台(21)可相对所述校准孔(23)伸缩运动,以在运动时将晶圆传送至所述校准孔(23)内,使所述校准孔(23)对所述晶圆的中心进行校准。
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