[实用新型]半导体处理设备

摘要

该实用新型涉及一种半导体处理设备，包括腔体、吹扫模块和运动模块，设置于腔体中，其中运动模块至少可在两个方向上发生运动，且运动模块的运动区域大于等于半导体处理设备的待吹扫区域；吹扫模块搭载在运动模块上，能够跟随运动模块在至少两个方向上运动，用于吹扫半导体处理过程中的副产物。本实用新型中的半导体处理设备具有设置在半导体处理设备腔体内的吹扫模块，因此可以在不打开半导体处理设备的腔体的情况下对半导体处理设备的腔体进行吹扫，简单方便。且吹扫模块安装在具有至少两个不同运动方向的运动单元的运动模块上，跟随运动单元进行运动，因此，吹扫模块的吹扫位置可随着运动模块的运动而变化，吹扫范围加宽。

主权项

1.一种半导体处理设备，包括腔体，其特征在于，还包括均设置于所述腔体中的吹扫模块和运动模块，其中，所述运动模块至少可在两个方向上运动，且所述运动模块的运动区域的面积大于或等于所述半导体处理设备的待吹扫区域的面积；所述吹扫模块搭载在运动模块上，能够跟随运动模块在至少两个方向上运动，用于吹扫半导体处理过程中生成的副产物。