[实用新型]用于原子层沉积装置的双层门体组件有效
申请号: | 201821622977.7 | 申请日: | 2018-09-30 |
公开(公告)号: | CN208883987U | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 李丙科;陈庆敏 | 申请(专利权)人: | 无锡松煜科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人: | 王闯;葛莉华 |
地址: | 214000 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于原子层沉积装置的双层门体组件,包括第一门板和第二门板,第一门板包括内侧面和外侧面,第二门板位于内侧面一侧且和第一门板间隔形成安装空间,第二门板在内侧面所在平面上的正投影位于内侧面上。位于安装空间内的内侧面上设置有加热板。连接杆活动穿设第一门板连接第二门板,外侧面上设置有导杆,调节板滑动设置在导杆上,连接杆连接调节板。调节板和外侧面之间设置有驱动气缸,驱动气缸连接调节板。本实用新型实施方式中,驱动气缸带动调节板运动,进而带动第二门板相对第一门板运动,在双层门体组件和大小腔室结构配合的时候,第二门板能和小腔室配合更紧密,提高小腔室内的密封性。 | ||
搜索关键词: | 门板 调节板 驱动气缸 双层门体 原子层沉积装置 本实用新型 安装空间 外侧面 侧面 导杆 连接调节板 连接杆连接 滑动设置 活动穿设 门板运动 腔室结构 所在平面 加热板 连接杆 密封性 小腔室 正投影 小腔 配合 室内 | ||
【主权项】:
1.一种用于原子层沉积装置的双层门体组件,其特征在于,包括第一门板和第二门板,所述第一门板包括内侧面和外侧面,所述第二门板位于所述内侧面一侧且和所述第一门板间隔形成安装空间,所述第二门板在所述内侧面所在平面上的正投影位于所述内侧面上,位于所述安装空间内的所述内侧面上设置有加热板,连接杆活动穿设所述第一门板连接所述第二门板,所述外侧面上设置有导杆,调节板滑动设置在所述导杆上,所述连接杆连接所述调节板,所述调节板和所述外侧面之间设置有驱动气缸,所述驱动气缸连接所述调节板。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的