[实用新型]一种可对基板进行温度调节的成膜设备有效
| 申请号： | 201821693802.5 | 申请日： | 2018-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN209022613U | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 李波;谢丹;舒霞云;许克宇;陈文奂;吴常健;魏智滨;张墙;肖航 | 申请（专利权）人： | 厦门理工学院 |
| 主分类号： | B41J2/05 | 分类号： | B41J2/05 |
| 代理公司： | 泉州市潭思专利代理事务所(普通合伙) 35221 | 代理人： | 麻艳 |
| 地址： | 361024 福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种可对基板进行温度调节的成膜设备，该成膜设备包括液滴喷头、运动机构、固定在运动机构的运动台上的基板；所述成膜设备还设有对基板的温度进行调节的温度调节装置和控制成膜设备工作的中控单元；该温度调节装置包括升温装置和降温装置。本实用新型可以调节成膜过程的温度，包括升温和降温，以方便达到成膜所需的最佳温度，完成均匀沉积薄膜，图案成型的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 成膜设备 对基板 温度调节装置 本实用新型 温度调节 运动机构 成膜过程 降温装置 均匀沉积 升温装置 图案成型 液滴喷头 中控单元 成膜 基板 薄膜 | ||
【主权项】：
1.一种可对基板进行温度调节的成膜设备，该成膜设备包括液滴喷头（11）、运动机构、固定在运动机构的运动台（13）上的基板（12）；其特征在于：所述成膜设备还设有对基板（12）的温度进行调节的温度调节装置（4）和控制成膜设备工作的中控单元（3）；该温度调节装置（4）包括升温装置和降温装置。
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