[实用新型]一种基于磁控共同溅射技术的真空镀膜装置

摘要

本实用新型公开了一种基于磁控共同溅射技术的真空镀膜装置，包括样品台、传送模块、电机、第一传动连接件和第二传动连接件，所述传送模块安装在样品台上，用于将样品从上料区传送至镀膜区，电机固定连接在箱体外部，电机通过联轴器与第一传动连接件一端固定连接，另一端与传送模块可拆卸传动连接，所述螺杆的螺纹作为物料槽，光杆安装在样品台上位于螺杆两侧以共同支撑物料，所述第二传动连接件，一端与螺杆传动连接，另一端与第一传动连接件无拆卸传动连接，本实用新型能够实现一次型多面镀膜，镀膜过程中，无需翻面处理，减少重新开箱和重新抽真空的时间，提高了镀膜效率。