[实用新型]对位部件及反应腔室

摘要

本实用新型提供一种对位部件及反应腔室，用于在基座位于工艺位置时使基片与基座的承载面对中，对位部件包括环形本体和引流结构，在环形本体的内周壁上设置有凸部，凸部在基座自传片位置上升至工艺位置的过程中，通过与基片的边缘相接触，来校正基片在基座上的位置，并且，在基座到达工艺位置时，凸部位于基座的承载面下方，以能够与基片相分离；引流结构与环形本体相邻设置，引流结构用于在基座位于工艺位置时，将吹扫气体引向基片上表面的边缘区域。本实用新型提供的对位部件及反应腔室，能够避免对位部件与基片相接触，阻挡吹扫气体对基片的边缘区域进行吹扫，从而提高基片的边缘排除区域尺寸的均匀性。

主权项

1.一种对位部件，用于在基座位于工艺位置时使基片与所述基座的承载面对中，其特征在于，所述对位部件包括环形本体和引流结构，在所述环形本体的内周壁上设置有凸部，所述凸部在所述基座自传片位置上升至所述工艺位置的过程中，通过与所述基片的边缘相接触，来校正所述基片在所述基座上的位置，并且，在所述基座到达所述工艺位置时，所述凸部位于所述基座的承载面下方，以能够与所述基片相分离；所述引流结构与所述环形本体相邻设置，所述引流结构用于在所述基座位于所述工艺位置时，将吹扫气体引向所述基片上表面的边缘区域。