[实用新型]一种多芯片层叠扇出型封装结构有效

专利信息
申请号: 201821906749.2 申请日: 2018-11-19
公开(公告)号: CN208904014U 公开(公告)日: 2019-05-24
发明(设计)人: 朱强 申请(专利权)人: 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L23/31;H01L23/488
代理公司: 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 代理人: 张东梅
地址: 214028 江苏省无锡市新区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种多芯片层叠扇出型封装结构,包括:第一介质层;第一金属柱,第一金属柱设置在第一介质层内,且贯穿第一介质层上下表面;第二金属柱,第二金属柱设置在第一介质层内,且贯穿第一介质层上下表面;第一芯片,第一芯片嵌入在第一介质层内,且贯穿第一介质层上下表面;第二芯片,第二芯片设置在第一芯片的背面;引线,引线电连接第二芯片焊盘至第一金属柱;第二介质层,第二介质层覆盖第二芯片、引线和第一金属柱表面;第三芯片,第三芯片倒装焊至第二金属柱;第三介质层,第三介质层位于第一介质层底面;金属互连层,金属互连层电连接至第一金属柱、第二金属柱和第一芯片的焊盘;第四介质层,第四介质层位于第三介质层底面;以及外接焊球,外接焊球电连接至金属互连层。
搜索关键词: 介质层 金属柱 芯片 金属互连层 上下表面 电连接 扇出型封装 多芯片 底面 焊球 外接 贯穿 本实用新型 芯片倒装 芯片焊盘 焊盘 背面 嵌入 覆盖
【主权项】:
1.一种多芯片层叠扇出型封装结构,包括:第一介质层;第一金属柱,所述第一金属柱设置在所述第一介质层内,且贯穿所述第一介质层上下表面;第二金属柱,所述第二金属柱设置在所述第一介质层内,且贯穿所述第一介质层上下表面;第一芯片,所述第一芯片嵌入在所述第一介质层内,且贯穿所述第一介质层上下表面;第二芯片,所述第二芯片设置在所述第一芯片的背面;引线,所述引线电连接所述第二芯片焊盘至所述第一金属柱;第二介质层,所述第二介质层覆盖所述第二芯片、引线和第一金属柱表面;第三芯片,所述第三芯片倒装焊至所述第二金属柱;第三介质层,所述第三介质层位于所述第一介质层底面;金属互连层,所述金属互连层电连接至所述第一金属柱、第二金属柱和所述第一芯片的焊盘;第四介质层,所述第四介质层位于所述第三介质层底面;以及外接焊球,所述外接焊球电连接至所述金属互连层。
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