[实用新型]一种板式ALD腔体的清理装置有效
| 申请号： | 201821977093.3 | 申请日： | 2018-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN209113985U | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | 刘恩华;姜大俊;潘岳林 | 申请（专利权）人： | 盐城阿特斯阳光能源科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 胡彬 |
| 地址： | 224000 江苏省盐*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型属于太阳能电池片制造技术领域，公开了一种板式ALD腔体的清理装置。该板式ALD腔体的清理装置包括清理框，清理框包括支撑板及阵列分布于支撑板的顶面的若干个清理部，支撑板能够沿板式ALD镀膜设备的工艺腔往复移动，清理部与工艺腔的盖板接触以清理盖板。本实用新型提供的板式ALD腔体的清理装置通过设置清理框来对板式ALD镀膜过程中的工艺腔体进行清理，支撑板的移动带动清理部来回摩擦盖板，从而将盖板上特气孔内附着的粉末清理下来，保持特气孔通畅，使得反应气体能够顺利地进入工艺腔内进行正常的反应。该清理装置能够自动清理工艺腔，节约清理时间，降低人工成本。 | ||
| 搜索关键词： | 板式 清理装置 工艺腔 支撑板 腔体 盖板 本实用新型 特气孔 太阳能电池片 镀膜过程 镀膜设备 反应气体 工艺腔体 摩擦盖板 人工成本 阵列分布 自动清理 附着 通畅 节约 移动 制造 | ||
【主权项】：
1.一种板式ALD腔体的清理装置，其特征在于，包括清理框(1)，所述清理框(1)包括支撑板(11)及阵列分布于所述支撑板(11)的顶面的若干个清理部(12)，所述支撑板(11)能够沿板式ALD镀膜设备的工艺腔(3)往复移动，所述清理部(12)与所述工艺腔(3)的盖板(4)接触以清理所述盖板(4)。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
