[实用新型]离合驱动式晶钻磨抛装置有效

专利信息
申请号: 201822062516.5 申请日: 2018-12-10
公开(公告)号: CN209256629U 公开(公告)日: 2019-08-16
发明(设计)人: 曹高月;狄小聪;胡方胜 申请(专利权)人: 浙江永耀机械科技有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B41/06;B24B41/02;B24B47/12;B24B47/04
代理公司: 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 代理人: 林元良
地址: 325000 浙江省温州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了离合驱动式晶钻磨抛装置,具有磨抛轮和放置台,磨抛轮与第一转轴连接,放置台可水平移动设置,还包括放置台驱动机构,放置台驱动机构可升降设置,当放置台驱动机构上升时,放置台驱动机构与放置台联动连接,并带动放置台旋转和上升,当放置台驱动机构下降时,放置台驱动机构与放置台分离。采用上述技术方案,既可以让放置台驱动机构与放置台连接,控制放置台的升降和旋转,与磨抛轮配合对晶钻进行磨抛加工,在该工位完成磨抛加工后,又可以使放置台驱动机构与放置台分离,单独控制放置台水平移动至下一个磨抛工位,进行下一步的磨抛作业,使得放置台的移动更加平稳且不会发生偏移、变形,同时有效减小能耗。
搜索关键词: 放置台 驱动机构 磨抛 磨抛轮 离合驱动 磨抛装置 工位 本实用新型 单独控制 联动连接 转轴连接 可升降 上升时 偏移 减小 变形 加工 能耗 升降 移动 配合
【主权项】:
1.离合驱动式晶钻磨抛装置,具有磨抛轮(3)和放置台(4),所述磨抛轮(3)与第一转轴(2)连接,所述第一转轴(2)与第一驱动电机(1)传动连接,所述放置台(4)位于所述磨抛轮(3)的下方,其特征在于:所述放置台(4)可水平移动设置,还包括放置台驱动机构,所述放置台驱动机构可升降设置,当所述放置台驱动机构上升时,所述放置台驱动机构与所述放置台(4)联动连接,并带动所述放置台(4)旋转和上升,当所述放置台(4)驱动机构下降时,所述放置台驱动机构与所述放置台(4)分离。
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