[实用新型]一种具有超低功耗和高写裕度的12T TFET SRAM单元电路有效
申请号: | 201822069491.1 | 申请日: | 2018-12-10 |
公开(公告)号: | CN209312439U | 公开(公告)日: | 2019-08-27 |
发明(设计)人: | 卢文娟;董兰志;彭春雨;吴秀龙;蔺智挺;陈军宁 | 申请(专利权)人: | 安徽大学 |
主分类号: | G11C11/402 | 分类号: | G11C11/402 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人: | 郑立明;郑哲 |
地址: | 230601 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种具有超低功耗和高写裕度的12T TFET SRAM单元电路,其利用TFET相比于MOSFET具有更小的亚阈值摆幅和更高的开关比等特性,不仅解决了传统MOSFET SRAM单元结构的静态功耗大的问题,在相同的工作电压下如0.3V到0.6V时,其静态功耗与其他TFET SRAM单元结构相比,其静态功耗至少降低了4个数量级,而且提高了TFET SRAM单元的写裕度和稳定性;即消除了TFET做SRAM传输管时出现的正偏漏电流问题,降低了单元的静态功耗,提高了单元的稳定性和写能力。 | ||
搜索关键词: | 静态功耗 裕度 超低功耗 电路 本实用新型 亚阈值摆幅 个数量级 工作电压 传输管 开关比 漏电流 | ||
【主权项】:
1.一种具有超低功耗和高写裕度的12T TFET SRAM单元电路,其特征在于,包括:八个NTFET晶体管和四个PTFET晶体管;八个NTFET晶体管依次记为N1~N8,四个PTFET晶体管依次记为P1~P4;其中:VDD和NTFET晶体管N1的漏极电连接,同时VDD也与PTFET晶体管P1及PTFET晶体管P2的源极电连接;PTFET晶体管P1的漏极,与NTFET晶体管N3的漏极、PTFET晶体管P2的栅极、NTFET晶体管N4及NTFET晶体管N8的栅极电连接;PTFET晶体管P2的漏极,与PTFET晶体管P3及PTFET晶体管P4的漏极、以及NTFET晶体管N4及NTFET晶体管N5的漏极电连接;PTFET晶体管P3的源极,与PTFET晶体管P4的源极、PTFET晶体管P1的栅极、NTFET晶体管N2的源极、以及NTFET晶体管N3的栅极电连接;NTFET晶体管N1的源极与NTFET晶体管N2的漏极电连接;NTFET晶体管N5的源极与NTFET晶体管N6的漏极电连接;NTFET晶体管N7的源极与NTFET晶体管N8的漏极电连接;NTFET晶体管N3、NTFET晶体管N4、NTFET晶体管N6及NTFET晶体管N8的源极与GND电连接。
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