[实用新型]一种CVD反应腔室真空度测量装置有效

专利信息
申请号: 201822169422.8 申请日: 2018-12-21
公开(公告)号: CN209416579U 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: 屈丰超;邓曾红;赵青松;张金斌;南建辉 申请(专利权)人: 东泰高科装备科技有限公司
主分类号: G01L21/00 分类号: G01L21/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹;吴欢燕
地址: 102209 北京市昌平*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及真空度测量技术领域,尤其涉及一种CVD反应腔室真空度测量装置。该CVD反应腔室真空度测量装置包括反应腔室、真空测量机构、移动机构、传动机构以及驱动机构,所述驱动机构通过所述传动机构与所述移动机构的一端相连,所述移动机构的另一端穿过所述反应腔室的侧壁且可移动的设置于所述反应腔室中,所述移动机构为具有中空腔室且两端开口的移动轴,所述真空测量机构设置于所述移动轴的中空腔室中。本实用新型提供的CVD反应腔室真空度测量装置,真空测量机构能够移动至反应腔室内的正中位置,从而测量出靠近于基体反应位置附近的真空度,真空度测量更加精确。
搜索关键词: 反应腔室 真空度测量装置 移动机构 真空测量 本实用新型 真空度测量 驱动机构 中空腔室 移动轴 反应位置 机构设置 两端开口 正中位置 反应腔 可移动 侧壁 测量 穿过 室内 移动
【主权项】:
1.一种CVD反应腔室真空度测量装置,其特征在于:包括反应腔室、真空测量机构、移动机构、传动机构以及驱动机构,所述驱动机构通过所述传动机构与所述移动机构的一端相连,所述移动机构的另一端穿过所述反应腔室的侧壁且可移动的设置于所述反应腔室中;所述移动机构为具有中空腔室且两端开口的移动轴,所述真空测量机构设置于所述移动轴的中空腔室中。
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